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實(shí)驗室自動涂膜機(jī)是指將涂料施工于底材上的一道或多道涂層所形成的固態(tài)連續(xù)膜的機(jī)器。通常全自動涂膜機(jī)的涂膜由多道涂層組成，依據(jù)被涂物件的要求而決定涂層的多寡。一般包括底漆層、中間涂層和面漆層。全自動涂膜機(jī)的涂膜體現(xiàn)涂料配套使用的效果。使用自動涂膜機(jī)可以獲得對涂層的物理性能、外觀、化學(xué)性能一致均勻的涂膜，可調(diào)節(jié)涂布速度及向前向后移動，機(jī)器采用觸摸屏編程控制、易于操作。實(shí)驗室自動涂膜機(jī)可配套線棒、濕膜制備器、刮刀自動涂膜打樣，通過機(jī)器自動刮膜，解放手動涂膜的效率。減少了由于人工手動涂...

程控烤膠機(jī)可在電子、化工等行業(yè)的工礦企業(yè)、科研、教育等單位，進(jìn)行熱老化、溫度試驗及干燥、烘焙、消毒和熱處理等試驗用?？灸z機(jī)整個面板溫度均勻，對基片膜層固化效果好。由于固化是從下往上，所以不會產(chǎn)生“皮膚效應(yīng)”。這種“由里而外”的固化方式尤其適合較厚的膜層，因為最靠近基片的膜層會首先固化好，然后是膜層靠外的部分。該款烤膠機(jī)由于升溫迅速，所以產(chǎn)量較高。烘烤時間用秒計算，而不是像傳統(tǒng)烘箱用分鐘或者小時計算。程控烤膠機(jī)將加熱元件內(nèi)置于加熱平臺，同時其加熱平臺用鋁塊加工而成，因此在保證熱...

程控勻膠機(jī)是高精密的旋轉(zhuǎn)涂膜儀，其主要被用來替高等院校、科研院所、研發(fā)中心等進(jìn)行各種功能薄膜的研究，開發(fā)。對于半導(dǎo)體硅片、晶片、ITO導(dǎo)電玻璃、光學(xué)玻璃、生物薄膜、制版等工藝表面涂覆十分適用。程控勻膠機(jī)具有速度精度高、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、旋轉(zhuǎn)加速度可控、勻膠過程多段程序控制等特點(diǎn)。主要用于微電子、半導(dǎo)體、太陽能電池、新能源、生物材料、光學(xué)器件等領(lǐng)域的表面涂膜工藝，例如各類納米薄膜材料、光阻涂層、生物功能涂層的制備。程控勻膠機(jī)的特點(diǎn)：1、機(jī)身選用耐酸堿、耐沖擊、耐腐蝕不銹鋼、不生銹，便于...

電解雙噴減薄儀雙噴減薄實(shí)驗過程：連線：連接電解槽和電源箱的連接控制電纜和USB線，連接外接電源到控制箱。按下電腦開關(guān)，啟動控制電腦，電腦啟動后會出現(xiàn)觸摸屏觸點(diǎn)校準(zhǔn)程序，按照提示完成觸點(diǎn)校正后會出現(xiàn)軟件控制界面。點(diǎn)擊軟件控制界面左上角的“總開關(guān)”，控制程序開始運(yùn)行，此時視頻監(jiān)控中會出現(xiàn)電解槽內(nèi)CCD攝像頭的監(jiān)控畫面。連接外部水冷：將電解雙噴減薄儀電解槽部分與外部冷卻水循環(huán)正確連接，確保冷卻水從電解槽的進(jìn)水口流入，從出水口流出。打開外部循環(huán)水開關(guān)，觀察水流速度，控制流速，測量外部...

電解雙噴儀采用觸摸屏控制，具有可視化、智能化的特點(diǎn)，能夠進(jìn)行獨(dú)立冷卻源精確控溫的金屬電鏡樣品制備設(shè)備，雙噴儀具有制備參數(shù)可存貯、調(diào)用，樣品制備效果好，重復(fù)性高等顯著特點(diǎn)。電解雙噴儀的功能特點(diǎn)：1.觸摸屏式人機(jī)界面：全彩觸摸屏控制，操作方便，簡單易用。良好的人機(jī)界面設(shè)計，數(shù)據(jù)直觀，電解質(zhì)溫度、電流變化曲線實(shí)時顯示。2.參數(shù)存貯調(diào)用功能：對每次操作設(shè)置的拋光電壓、泵流速度、感光停止值、推薦溫度以及電解液名稱等均可進(jìn)行命名存貯和隨時調(diào)用。3.*的電壓掃描功能：對金屬樣品可進(jìn)行選定范...

烤膠機(jī)是針對半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)中晶圓烘烤而設(shè)計的一款產(chǎn)品，是—種設(shè)計為精確控溫、準(zhǔn)確計時和接近式加熱的高性能實(shí)驗窒設(shè)備，帶有真空吸附、頂針定位烤膠、線性升溫等功能，可實(shí)現(xiàn)智能化編程烤膠控制。儀器采用高精度微處理器，溫度控制更加精確?？赏瑫r顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度，外觀小巧精致，更適宜通風(fēng)櫥使用。結(jié)構(gòu)簡單，可靠性高，元器件均做防腐蝕處理加熱部件與元器件分離設(shè)計，更加耐用?？灸z機(jī)外殼采用不銹鋼鍍膜處理，耐氧化不變色。加熱部件采用高溫加熱盤管，具有使用壽命長，加熱均勻性高的特點(diǎn)。采用新穎...

勻膠機(jī)的勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中最重要的因素?；霓D(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運(yùn)動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個階段。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點(diǎn)上，膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。勻膠機(jī)勻膠過程中...